Electrical characterization of MIS capacitors fabricated from ECR-PECVD silicon oxide and silicon nitride bilayer films

  1. Castán, H.
  2. Dueñas, S.
  3. Barbolla, J.
  4. San Andrés, E.
  5. Del Prado, A.
  6. Mártil, I.
  7. González-Díaz, G.
Zeitschrift:
Journal of Materials Science: Materials in Electronics

ISSN: 0957-4522

Datum der Publikation: 2003

Ausgabe: 14

Nummer: 5-7

Seiten: 287-290

Art: Artikel

DOI: 10.1023/A:1023907508286 GOOGLE SCHOLAR