Fabrication and characterization of photonic structures in crystals of the KTiOPO4 family

  1. Raj Kumar, G.
  2. Carvajal, J.J.
  3. Pujol, M.C.
  4. Mateos, X.
  5. Aguiló M.
  6. Díaz, F.
  7. Vázquez de Aldana, J.R.
  8. Méndez, C.
  9. Moreno, P.
  10. Roso, L.
  11. Trifonov, T.
  12. Rodríguez, A.
  13. R. Alcubilla
  14. Z. Král
  15. J. Ferre-Borrull
  16. J. Pallarès
  17. L.F. Marsal
  18. S. Di Finizio
  19. R. Macovez
  20. J. Martorell
Revista:
Óptica pura y aplicada

ISSN: 2171-8814

Año de publicación: 2009

Título del ejemplar: Optoel 09 I

Volumen: 42

Número: 3

Páginas: 147-152

Tipo: Artículo

Otras publicaciones en: Óptica pura y aplicada

Resumen

Se presentan dos procedimientos diferentes para fabricar estructuras fotónicas en cristales de la familia KTiOPO4. En primer lugar hemos usado ablación mediante láser ultrarápido para fabricar un cristal fotónico 1D en la superficie de un cristal de RbTiOPO4, y hemos evaluado sus propiedades como red de difracción. También presentamos recientes avances obtenidos mediante un nuevo procedimiento de fabricación de cristales fotónicos 2D y 3D de KTiOPO4, crecidos epitaxialmente en la superficie de un substrato de KTP mediante fase líquida dentro de los macroporos de un molde de silicio. Se presentan resultados de su caracterización morfológica, estructural y óptica.