Electrical characterization of MOS structures fabricated on SF6 and SF6 + C2CIF5 reactive ion etched silicon
- Castán, E.
- Vicente, J.
- Barbolla, J.
- Cabruja, E.
- Lora-Tamayo, E.
ISSN: 0168-583X
Any de publicació: 1993
Volum: 80-81
Número: PART 2
Pàgines: 1362-1366
Tipus: Article