Dose effects on amorphous silicon sputtering by argon ions: A molecular dynamics simulation
- Marqués, L.A.
- Rubio, J.E.
- Jaraíz, M.
- Bailón, L.A.
- Barbolla, J.J.
ISSN: 0021-8979
Datum der Publikation: 1997
Ausgabe: 81
Nummer: 3
Seiten: 1488-1494
Art: Artikel