Use of transient enhanced diffusion to tailor boron out-diffusion
- Vuong, H.-H.
- Xie, Y.-H.
- Frei, M.R.
- Hobler, G.
- Pelaz, L.
- Rafferty, C.S.
ISSN: 0018-9383
Ano de publicación: 2000
Volume: 47
Número: 7
Páxinas: 1401-1405
Tipo: Artigo
Revista:
IEEE Transactions on Electron Devices