Atomistic modeling of amorphization and recrystallization in silicon

  1. Pelaz, L.
  2. Marqués, L.A.
  3. Aboy, M.
  4. Barbolla, J.
  5. Gilmer, G.H.
Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Ano de publicación: 2003

Volume: 82

Número: 13

Páxinas: 2038-2040

Tipo: Artigo

DOI: 10.1063/1.1564296 GOOGLE SCHOLAR