Atomistic simulation of damage accumulation during shallow B and As implant into Si

  1. López, P.
  2. Pelaz, L.
  3. Marqués, L.A.
  4. Santos, I.
  5. Van Den Berg, J.A.
Actes:
2007 Spanish Conference on Electron Devices, Proceedings

ISBN: 9781424408689

Any de publicació: 2007

Pàgines: 21-24

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1109/SCED.2007.383987 GOOGLE SCHOLAR

Objectius de Desenvolupament Sostenible