Atomistic simulations of ion implantation and diffusion

  1. Gilmer, G.H.
  2. Pelaz, L.
  3. Jaraiz, M.
  4. Gossmann, H.-J.
  5. Rafferty, C.S.
Actes:
International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices, SISPAD

Any de publicació: 1999

Pàgines: 43-46

Tipus: Aportació congrés

GOOGLE SCHOLAR