A solution for an ideal planar multi-gates process for ultimate CMOS?

  1. Monfray, S.
  2. Huguenin, J.-L.
  3. Martin, M.
  4. Samson, M.-P.
  5. Borowiak, C.
  6. Arvet, C.
  7. Dalemcourt, J.F.
  8. Perreau, P.
  9. Barnola, S.
  10. Bidal, G.
  11. Denorme, S.
  12. Campidelli, Y.
  13. Benotmane, K.
  14. Leverd, F.
  15. Gouraud, P.
  16. Le-Gratiet, B.
  17. De-Buttet, C.
  18. Pinzelli, L.
  19. Beneyton, R.
  20. Morel, T.
  21. Wacquez, J.
  22. Bustos, null
  23. Icard, B.
  24. Pain, L.
  25. Barraud, S.
  26. Ernst, T.
  27. Boeuf, F.
  28. Faynot, O.
  29. Skotnicki, T.
  30. Mostrar todos los/as autores/as +
Actas:
Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM

ISSN: 0163-1918

ISBN: 9781424474196

Año de publicación: 2010

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/IEDM.2010.5703339 GOOGLE SCHOLAR

Objetivos de desarrollo sostenible