Grupo de Espectroscopía de Plasmas y Chorros Supersónicos
Nokia Foundation
Espoo, FinlandiaPublicacions en col·laboració amb investigadors/es de Nokia Foundation (2)
1999
-
Atomistic simulations of ion implantation and diffusion
International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices, SISPAD
1997
-
Atomistic model of transient enhanced diffusion and clustering of boron in silicon
Materials Research Society Symposium - Proceedings