Incorporation of phosphorus into mesostructured silicas: A novel approach to reduce the SiO2 leaching in water

  1. García, A.
  2. Colilla, M.
  3. Izquierdo-Barba, I.
  4. Vallet-Regí, M.
Revista:
Chemistry of Materials

ISSN: 1520-5002,  0897-4756

Any de publicació: 2009

Volum: 21

Número: 18

Pàgines: 4135-4145

Tipus: Article

DOI: 10.1021/CM9012816 GOOGLE SCHOLAR

Objectius de Desenvolupament Sostenible