A study of metal-oxide-semiconductor capacitors fabricated on SF 6 and SF6+Cl2 reactive-ion-etched Si
- Castán, E.
- Arias, J.
- Barbolla, J.
- Cabruja, E.
- Lora-Tamayo, E.
ISSN: 0021-8979
Ano de publicación: 1992
Volume: 71
Número: 6
Páxinas: 2710-2716
Tipo: Artigo