Atomistic modeling of deactivation and reactivation mechanisms in high-concentration boron profiles

  1. Aboy, M.
  2. Pelaz, L.
  3. Marqués, L.A.
  4. Barbolla, J.
  5. Mokhberi, A.
  6. Takamura, Y.
  7. Griffin, P.B.
  8. Plummer, J.D.
Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Ano de publicación: 2003

Volume: 83

Número: 20

Páxinas: 4166-4168

Tipo: Artigo

DOI: 10.1063/1.1628391 GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable