Amorphous layer depth dependence on implant parameters during Si self-implantation
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- Marques, L.A.
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- Gossmann, H.-J.L.
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- Kimura, K.
- Matsushita, T.
ISSN: 0921-5107
Año de publicación: 2005
Volumen: 124-125
Número: SUPPL.
Páginas: 379-382
Tipo: Aportación congreso