Ion implantation and transient enhanced diffusion

  1. Poate, J.M.
  2. Eaglesham, D.J.
  3. Gilmer, G.H.
  4. Gossmann, H.-J.
  5. Jaraiz, M.
  6. Rafferty, C.S.
  7. Stolk, P.A.
Actas:
Technical Digest - International Electron Devices Meeting

ISSN: 0163-1918

Ano de publicación: 1995

Páxinas: 77-80

Tipo: Achega congreso

GOOGLE SCHOLAR