Boron-Enhanced-Diffusion of boron: The limiting factor for ultra-shallow junctions

  1. Agarwal, Aditya
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Actas:
Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM

ISSN: 0163-1918

Año de publicación: 1997

Páginas: 467-470

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/IEDM.1997.650425 GOOGLE SCHOLAR

Objetivos de desarrollo sostenible