Improvement of interfacial and electrical properties of Al2O3/ n-Ga0.47In0.53As for III-V impact ionization MOSFETs

  1. Lechaux, Y.
  2. Fadjie, A.
  3. Bollaert, S.
  4. Talbo, V.
  5. Mateos, J.
  6. González, T.
  7. Vasallo, B.G.
  8. Wichmann, N.
Actes de conférence:
Journal of Physics: Conference Series

ISSN: 1742-6596,  1742-6588

Année de publication: 2015

Volumen: 647

Número: 1

Type: Communication dans un congrès

DOI: 10.1088/1742-6596/647/1/012062 GOOGLE SCHOLAR lock_openAccès ouvert editor

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