Improvement of interfacial and electrical properties of Al2O3/ n-Ga0.47In0.53As for III-V impact ionization MOSFETs

  1. Lechaux, Y.
  2. Fadjie, A.
  3. Bollaert, S.
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  5. Mateos, J.
  6. González, T.
  7. Vasallo, B.G.
  8. Wichmann, N.
Actas:
Journal of Physics: Conference Series

ISSN: 1742-6596,  1742-6588

Ano de publicación: 2015

Volume: 647

Número: 1

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1088/1742-6596/647/1/012062 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso aberto editor

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