Atomistic modeling of dopant implantation and annealing in Si: Damage evolution, dopant diffusion and activation

  1. Pelaz, L.
  2. Marqués, L.A.
  3. Aboy, M.
  4. López, P.
  5. Barbolla, J.
Aldizkaria:
Computational Materials Science

ISSN: 0927-0256

Argitalpen urtea: 2005

Alea: 33

Zenbakia: 1-3

Orrialdeak: 92-105

Mota: Biltzar ekarpena

DOI: 10.1016/J.COMMATSCI.2004.12.043 GOOGLE SCHOLAR