Atomistic modeling of dopant implantation and annealing in Si: Damage evolution, dopant diffusion and activation
- Pelaz, L.
- Marqués, L.A.
- Aboy, M.
- López, P.
- Barbolla, J.
ISSN: 0927-0256
Ano de publicación: 2005
Volume: 33
Número: 1-3
Páxinas: 92-105
Tipo: Achega congreso