Atomic layer deposition and properties of HFO 2 -Al 2 O 3 nanolaminates

  1. Kukli, K.
  2. Kemell, M.
  3. Castán, H.
  4. Dueñas, S.
  5. Seemen, H.
  6. Rähn, M.
  7. Link, J.
  8. Stern, R.
  9. Ritala, M.
  10. Leskelä, M.
Aldizkaria:
ECS Journal of Solid State Science and Technology

ISSN: 2162-8777,  2162-8769

Argitalpen urtea: 2018

Alea: 7

Zenbakia: 9

Orrialdeak: P501-P508

Mota: Artikulua

DOI: 10.1149/2.0261809JSS GOOGLE SCHOLAR lock_openSarbide irekia editor