Atomic layer deposition and performance of ZrO2-Al2O3 thin films

  1. Kukli, K.
  2. Kemell, M.
  3. Castán, H.
  4. Dueñas, S.
  5. Seemen, H.
  6. Rähn, M.
  7. Link, J.
  8. Stern, R.
  9. Heikkilä, M.J.
  10. Ritala, M.
  11. Leskelä, M.
Revista:
ECS Journal of Solid State Science and Technology

ISSN: 2162-8777,  2162-8769

Ano de publicación: 2018

Volume: 7

Número: 5

Páxinas: P287-P294

Tipo: Artigo

DOI: 10.1149/2.0021806JSS GOOGLE SCHOLAR