Study from cryogenic to high temperatures of the high- and low-resistance-state currents of ReRAM Ni-HfO2-Si capacitors

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Revista:
IEEE Transactions on Electron Devices

ISSN: 0018-9383

Año de publicación: 2016

Volumen: 63

Número: 5

Páginas: 1877-1883

Tipo: Artículo

DOI: 10.1109/TED.2016.2546898 GOOGLE SCHOLAR