Electrical characterization of high-pressure reactive sputtered Sc 2O3 films on silicon
- Castán, H.
- Dueñas, S.
- Gómez, A.
- García, H.
- Bailón, L.
- Feijoo, P.C.
- Toledano-Luque, M.
- Del Prado, A.
- San Andrés, E.
- Lucía, M.L.
ISSN: 1938-5862, 1938-6737
ISBN: 9781566777919
Any de publicació: 2010
Volum: 28
Número: 1
Pàgines: 287-297
Tipus: Aportació congrés