Atomic layer deposition and properties of ZrO2/Fe2O3 thin films

  1. Kalam, K.
  2. Seemen, H.
  3. Ritslaid, P.
  4. Rähn, M.
  5. Tamm, A.
  6. Kukli, K.
  7. Kasikov, A.
  8. Link, J.
  9. Stern, R.
  10. Dueñas, S.
  11. Castán, H.
  12. García, H.
Revista:
Beilstein Journal of Nanotechnology

ISSN: 2190-4286

Any de publicació: 2018

Volum: 9

Número: 1

Pàgines: 119-128

Tipus: Article

DOI: 10.3762/BJNANO.9.14 GOOGLE SCHOLAR lock_openAccés obert editor