Atomic layer deposition and properties of ZrO2/Fe2O3 thin films

  1. Kalam, K.
  2. Seemen, H.
  3. Ritslaid, P.
  4. Rähn, M.
  5. Tamm, A.
  6. Kukli, K.
  7. Kasikov, A.
  8. Link, J.
  9. Stern, R.
  10. Dueñas, S.
  11. Castán, H.
  12. García, H.
Aldizkaria:
Beilstein Journal of Nanotechnology

ISSN: 2190-4286

Argitalpen urtea: 2018

Alea: 9

Zenbakia: 1

Orrialdeak: 119-128

Mota: Artikulua

DOI: 10.3762/BJNANO.9.14 GOOGLE SCHOLAR lock_openSarbide irekia editor