Atomic layer deposition and properties of ZrO2/Fe2O3 thin films

  1. Kalam, K.
  2. Seemen, H.
  3. Ritslaid, P.
  4. Rähn, M.
  5. Tamm, A.
  6. Kukli, K.
  7. Kasikov, A.
  8. Link, J.
  9. Stern, R.
  10. Dueñas, S.
  11. Castán, H.
  12. García, H.
Revista:
Beilstein Journal of Nanotechnology

ISSN: 2190-4286

Ano de publicación: 2018

Volume: 9

Número: 1

Páxinas: 119-128

Tipo: Artigo

DOI: 10.3762/BJNANO.9.14 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso aberto editor