Physical modeling and implementation scheme of native defect diffusion and interdiffusion in SiGe heterostructures for atomistic process simulation
- Castrillo, P.
- Pinacho, R.
- Jaraiz, M.
- Rubio, J.E.
ISSN: 0021-8979
Any de publicació: 2011
Volum: 109
Número: 10
Tipus: Aportació congrés