Physical modeling and implementation scheme of native defect diffusion and interdiffusion in SiGe heterostructures for atomistic process simulation
- Castrillo, P.
- Pinacho, R.
- Jaraiz, M.
- Rubio, J.E.
ISSN: 0021-8979
Datum der Publikation: 2011
Ausgabe: 109
Nummer: 10
Art: Konferenz-Beitrag