Conduction and stability of holmium titanium oxide thin films grown by atomic layer deposition

  1. Castán, H.
  2. García, H.
  3. Dueñas, S.
  4. Bailón, L.
  5. Miranda, E.
  6. Kukli, K.
  7. Kemell, M.
  8. Ritala, M.
  9. Leskelä, M.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Ano de publicación: 2015

Volume: 591

Páxinas: 55-59

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.TSF.2015.08.027 GOOGLE SCHOLAR