Structure and Electrical Behavior of Hafnium-Praseodymium Oxide Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition

  1. Kukli, K.
  2. Aarik, L.
  3. Vinuesa, G.
  4. Dueñas, S.
  5. Castán, H.
  6. García, H.
  7. Kasikov, A.
  8. Ritslaid, P.
  9. Piirsoo, H.-M.
  10. Aarik, J.
Revista:
Materials

ISSN: 1996-1944

Any de publicació: 2022

Volum: 15

Número: 3

Tipus: Article

DOI: 10.3390/MA15030877 GOOGLE SCHOLAR lock_openAccés obert editor