Structure and Electrical Behavior of Hafnium-Praseodymium Oxide Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
- Kukli, K.
- Aarik, L.
- Vinuesa, G.
- Dueñas, S.
- Castán, H.
- García, H.
- Kasikov, A.
- Ritslaid, P.
- Piirsoo, H.-M.
- Aarik, J.
Zeitschrift:
Materials
ISSN: 1996-1944
Datum der Publikation: 2022
Ausgabe: 15
Nummer: 3
Art: Artikel
