Structure and Electrical Behavior of Hafnium-Praseodymium Oxide Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
- Kukli, K.
- Aarik, L.
- Vinuesa, G.
- Dueñas, S.
- Castán, H.
- García, H.
- Kasikov, A.
- Ritslaid, P.
- Piirsoo, H.-M.
- Aarik, J.
Revista:
Materials
ISSN: 1996-1944
Ano de publicación: 2022
Volume: 15
Número: 3
Tipo: Artigo
