Inhomogeneous HfO2layer growth at atomic layer deposition

  1. Kasikov, A.
  2. Tarre, A.
  3. Vinuesa, G.
Zeitschrift:
Journal of Electrical Engineering

ISSN: 1339-309X,  1335-3632

Datum der Publikation: 2023

Ausgabe: 74

Nummer: 4

Seiten: 246-255

Art: Artikel

DOI: 10.2478/JEE-2023-0031 GOOGLE SCHOLAR lock_openOpen Access editor