Conductance transient, capacitance-voltage and deep-level transient spectroscopy characterization of atomic layer deposited hafnium and zirconium oxide thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. Barbolla, J.
  4. Kukli, K.
  5. Ritala, M.
  6. Leskelä, M.
Revista:
Solid-State Electronics

ISSN: 0038-1101

Any de publicació: 2003

Volum: 47

Número: 10

Pàgines: 1623-1629

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1016/S0038-1101(03)00172-2 GOOGLE SCHOLAR