Conductance transient, capacitance-voltage and deep-level transient spectroscopy characterization of atomic layer deposited hafnium and zirconium oxide thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. Barbolla, J.
  4. Kukli, K.
  5. Ritala, M.
  6. Leskelä, M.
Revista:
Solid-State Electronics

ISSN: 0038-1101

Ano de publicación: 2003

Volume: 47

Número: 10

Páxinas: 1623-1629

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1016/S0038-1101(03)00172-2 GOOGLE SCHOLAR