Conductance transient, capacitance-voltage and deep-level transient spectroscopy characterization of atomic layer deposited hafnium and zirconium oxide thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. Barbolla, J.
  4. Kukli, K.
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  6. Leskelä, M.
Zeitschrift:
Solid-State Electronics

ISSN: 0038-1101

Datum der Publikation: 2003

Ausgabe: 47

Nummer: 10

Seiten: 1623-1629

Art: Konferenz-Beitrag

DOI: 10.1016/S0038-1101(03)00172-2 GOOGLE SCHOLAR