Conductance transient, capacitance-voltage and deep-level transient spectroscopy characterization of atomic layer deposited hafnium and zirconium oxide thin films
- Dueñas, S.
- Castán, H.
- Barbolla, J.
- Kukli, K.
- Ritala, M.
- Leskelä, M.
ISSN: 0038-1101
Datum der Publikation: 2003
Ausgabe: 47
Nummer: 10
Seiten: 1623-1629
Art: Konferenz-Beitrag